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“厂家供应高纯高致密碲化锑靶材 三碲化二锑靶材 溅射靶材”参数说明
| 是否有现货： | 否 | 加工定制： | 是 |
| 种类： | 化合物半导体 | 特性： | 高致密 |
| 用途： | 镀膜 | 型号： | 4N |
| 规格： | 99.99% | 商标： | CNBM |
| 包装： | 适合运输包装 | 产量： | 2000 |
“厂家供应高纯高致密碲化锑靶材 三碲化二锑靶材 溅射靶材”详细介绍
我公司长期提供各种高纯金属，半导体化合物，靶材，接受各种定制合成。（冉松林，13541048799，QQ:122686839）
主营产品或服务：
靶材;陶瓷靶材;金属靶材;合金靶材;蒸发镀膜料;蒸发舟;坩埚;基片;晶体材料;粉末材料;sputtering target;磁控溅射靶材;高纯金属;氧化物靶材;氟化物靶材;硫化物靶材;半导体材料;贵金属;太阳能材料
优势产品:
1.磁控溅射靶材（高纯单质金属靶材,高纯合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷复合靶材,稀土靶材,贵金属靶材）
2.真空镀膜料（高纯金属膜料,高纯化合物膜料,贵金属膜料）
3.稀土金属（蒸馏稀土金属,还原稀土金属）
4.镀膜基片（Si硅基片,氧化硅基片,氟化物基片）
5.纳米化合物粉末,纳米金属粉末,高纯试剂,晶体材料等
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